臺灣CVD氣相沉積爐

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詳細介紹

用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。

主要應用集成電路、半導體照明、微機電系統(tǒng)、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領(lǐng)域

CVD參數(shù).jpg

用于滿足CVD-TaC生長過程中的環(huán)境要求。

控制系統(tǒng)由PLC控制，控制準確，自動化程度高，可實現(xiàn)全自動/手動無擾動切換，操作簡單可靠、節(jié)省能源、無環(huán)境污染。

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