2024半導體技術及應用創(chuàng)新展

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2024半導體技術及應用創(chuàng)新展

發(fā)布日期：2024-07-15 作者：人事行政部點擊：

7月3日至5日上海新國際博覽中心于近日舉辦了一場半導體技術及應用創(chuàng)新展，吸引了眾多業(yè)內人士前來參觀交流。展會以CVD爐和裂解爐為主要展品，展示了半導體技術領域的最新發(fā)展和應用創(chuàng)新。展會不僅展示了半導體技術領域的最新技術，還為行業(yè)內的企業(yè)提供了交流、合作和創(chuàng)新的機會。

我公司展示的CVD氣相沉積爐和高溫石墨化爐受到行業(yè)關注，高溫石墨化爐用于碳碳復合材料、石墨軟氈、石墨硬氈的高溫石墨化及純化處理或其他產品的高溫燒結處理。高溫純化爐是將石墨制品、石墨軟氈、石墨硬氈或SiC粉體等通過高溫焙燒和工藝氣體定向流動，經過物理擴散、化學反應使雜質元素從基體中排出，形成灰分含量低（5ppmw）、金屬含量降到PPB數量級，從而達到半導體晶體生長對石墨品質（或粉體原料）要求的工藝過程。采用恒進專屬超高溫、大電流引電技術，能在2400℃條件下長時間穩(wěn)定使用。

CVD氣相沉積爐用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。主要應用集成電路、半導體照明、微機電系統(tǒng)、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域用于滿足CVD-TaC/SiC生長過程中的環(huán)境要求?？刂葡到y(tǒng)由PLC控制，控制準確，自動化程度高，可實現(xiàn)全自動/手動無擾動切換，操作簡單可靠、節(jié)省能源、無環(huán)境污染。

展會的舉辦對于推動半導體技術領域的發(fā)展起到了積極的促進作用。展示了國內半導體技術企業(yè)的技術實力和應用創(chuàng)新能力，加強了企業(yè)之間的技術交流和合作，有助于提升整個半導體技術領域的水平和競爭力。

總之，本次半導體技術及應用創(chuàng)新展是一次非常成功的展會，它匯聚了業(yè)內的領軍企業(yè)和專業(yè)人士，展示了最新的技術和應用創(chuàng)新。我們期望這樣的展會能夠更多地舉辦，為半導體技術的發(fā)展添磚加瓦。